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2022-10-14

光刻掩膜版的原理，簡單來說，就是利用光學-化學反應原理和化學以及物理刻蝕方法，將電路圖形傳遞到單晶表面或介質層上，從而形成圖形；它的原理類似...

2022-09-23

光刻是芯片設計中的重要技術。它具體是指在光照作用下，借助光致抗蝕劑將掩膜版上的圖形轉移到基片上的一種技術。那光刻工藝對掩膜版的質量要求：精...

2022-09-09

金屬掩膜版是半導體領域必不可少的工具，目前國內主要生產金屬掩膜版的公司有深圳市鴻浚通科技有限公司；南京澄超光電科技有限公司；湖南省鴻宇通光...

2022-08-25

正性光刻膠一般在使用過程中都簡稱為正膠，在顯影液中，光刻膠的溶解度是非常高的。行業內普遍認為正性光刻膠具有更好的對比度，生成的圖形也具有更好...

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