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光刻掩膜版加工最小尺寸？

光刻版加工尺寸有多種，不同行業(yè)常用尺寸也不同。

IC（集成電路）行業(yè)專用光刻掩膜版，常用石英和蘇打3~14 inch的基材光掩模，制作精度覆蓋0.13um，0.18um，0.25um，0.35um，0.5um及以上芯片工藝節(jié)點（node），最小圖形制作高達0.5um，制作精度±0.03um，也可以根據(jù)客戶的具體需求進行定制加工。

光刻掩膜版的應(yīng)用還包括光學(xué)器件編碼器等行業(yè)、FPC/MEMS(線路版、電子傳感器)行業(yè)、LCD（液晶顯示器）行業(yè)、Touch panel(觸摸屏）行業(yè)等等。