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用什么打印光刻掩膜版
【2021-07-24】

光刻掩膜版的制作最重要的設(shè)備就是光刻機,光刻機英文名稱Mask Aligner,又名光刻系統(tǒng)、曝光系統(tǒng)等,它采用激光直寫的方式,在光刻掩膜版上面進行圖形繪制,從而制作出掩膜版。

光刻機是光刻掩膜版制作的核心設(shè)備,也是芯片制作的重要設(shè)備制造和維護都需要高度的光學(xué)和電子工業(yè)的基礎(chǔ),目前光刻機還是國外少數(shù)廠家掌握,因此光刻機的價格非常昂貴。

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