本企業(yè)通過ISO9001質(zhì)量管理體系認(rèn)證
所有的DUV光刻機(jī),用的光源都是193nm波長的ArF excimer laser,之前的一代DUV,用的光源是248nm波長的KrF excimer laser。另外,EUV光刻機(jī)的光源,是13.3nm的laser pulsed tin plasma。
DUV是deep ultra violet (深紫外光)的縮寫,人的肉眼,可見光的波長大約是400-700nm,紅光波長紫光波短,波長比紅光波更長的是紅外光(Infrared),波長比紫光更短的是紫外光 (ultra-vilolet),顯然無論是248nm波長的KrF還是193nm的ArF,光波長度都低于紫光,都在紫外范疇,至于13.3nm的波長,那是紫外光波長范圍繼續(xù)細(xì)分,稱之為極紫外光 ,英文extreme ultra violet,這也是EUV的由來。
為什么能用波長193nm的ArF光源,光刻出遠(yuǎn)小于波長本身的物理尺寸,比方40nm,28nm.....甚至14nm,7nm...這個(gè)就說來話長了。大阪大學(xué)的 @雨落做了一個(gè)很好的科普,是關(guān)于光的衍射。另外,光波長和能光刻出的最小尺寸的關(guān)系,我這里還有個(gè)公式:
如果不在光學(xué)器件上做文章,193nm的ArF DUV,最小能達(dá)到的關(guān)鍵尺寸,其實(shí)是60+nm。那么怎么在不換光源的前提下,能把關(guān)鍵尺寸做的更小?
第一個(gè)革新,就是immersion,也就是浸潤式光刻:純水的折射率有1.5,在projection system的最后一個(gè)鏡頭和硅晶圓(wafer)之間的空間,通過獨(dú)特的設(shè)計(jì),每次曝光的時(shí)候,充純水進(jìn)去,能利用水的折射,穩(wěn)定的聚光,從而把能達(dá)到的關(guān)鍵尺寸,縮減到40+nm,具體是40nm,還是43或者45nm,看各個(gè)不同的公司自己的工藝水準(zhǔn)。
第二個(gè)革新,就是double/triple patterning:原本一次曝光的圖形,想要做的更小,分多次曝光完成。具體一點(diǎn),就是多設(shè)計(jì)幾層光刻板(reticle),把關(guān)鍵尺寸,用光刻板不同層之間的差異來實(shí)現(xiàn)。這樣做的麻煩之處,就在于增加光刻工藝的復(fù)雜程度,拉高了單元芯片的制造成本,以及在技術(shù)上,不同光刻層之間,對板的誤差要求,會隨著技術(shù)節(jié)點(diǎn)(technology node)的推進(jìn),而越來越高。
臺積電,三星,Intel,就是用這樣的辦法,DUV+immersion+double/triple patterning,做到了10nm甚至7nm的關(guān)鍵尺寸。我們國家的中芯國際,做到了14nm。用的是同樣的光刻機(jī)。
7nm往下,還要繼續(xù)推進(jìn)到5nm,3nm,甚至2nm,ArF 193nm的光源,真的是無能為力了。所以,需要EUV,用更短的波長去完成更小關(guān)鍵尺寸的光刻工藝。
中芯國際現(xiàn)在才做到14nm。即便給中芯國際三五十臺EUV光刻機(jī),也是沒辦法迅速彎道超車到5nm(3nm)。半導(dǎo)體技術(shù)的研發(fā),不是僅僅依賴于那個(gè)先進(jìn)的設(shè)備,同樣重要的還有光刻工藝。而每一代光刻工藝(例如 14nm),是要迭代應(yīng)用到下一代產(chǎn)品 (例如 10nm)。技術(shù)實(shí)力強(qiáng)的公司,或許能跳過一代技術(shù)節(jié)點(diǎn)做研發(fā)(但是難度非常大),可是沒可能跳過兩代技術(shù)節(jié)點(diǎn)。
所以中芯國際只買了一臺EUV。價(jià)格貴(大概1.08億美元)不是只買一臺的唯一原因,而是買多了,現(xiàn)在真用不上。就這一臺,還是著眼于兩三代技術(shù)節(jié)點(diǎn)之后的產(chǎn)品研發(fā)(14nm ->10nm -> 7nm -> 5nm)。必須要用EUV的,是5nm以及以下,直到7nm,DUV都夠用。臺積電已經(jīng)給出很好的示范了。不要提到這種問題就愛國,就沸騰,就美國掐脖子,就荷蘭是幫兇....多了解一些技術(shù)背景。三星,英特爾和臺積電瘋搶EUV,是因?yàn)樗麄兡壳熬鸵谩H呛团_積電都已經(jīng)開始攻堅(jiān)3nm了。而中芯國際,在logic device領(lǐng)域,確實(shí)還是第二梯隊(duì)的,下一代和下下代研發(fā),都不是非EUV不可,DUV完全夠用。需要多沉下心來多琢磨光刻工藝。
可喜的是,經(jīng)過多年內(nèi)耗,中芯國際已經(jīng)走在一條正確的道路上了。
一個(gè)海沙幫的小卒,拿把屠龍刀,也無法稱霸武林的。還是要有內(nèi)功心法,有實(shí)戰(zhàn)招式。
來源:知乎