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　　光刻掩膜版，也通常稱為掩膜板，它是我們在微納加工技術(shù)中常用的光刻工藝中使用的圖形的母版。

通常對掩膜版的基本求如下：

（1）精度高：圖形尺寸準(zhǔn)確，符合設(shè)計(jì)要求，且不發(fā)生畸變。

（2）套刻準(zhǔn)：應(yīng)當(dāng)保證整套掩模版中的各個次版能依次套住，套準(zhǔn)誤差盡量小。

（3）反差強(qiáng)：圖形黑白域之間的反差要高，一般要求在2.5以上。邊緣光滑，無毛刺，過渡區(qū)要小（即“黑區(qū)”應(yīng)盡可能陡直地過渡到“透明區(qū)”）。

（4）耐磨損：版面平整、光潔、無針孔和劃痕，堅(jiān)固耐用且不易變形。