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掩膜版的制作首先需要提供掩膜基板，常見的掩膜基板有石英和蘇打兩種材料。
光刻過程則需要根據實際圖案選擇合適屬性的光刻膠，以完成曝光、顯影。
得到光致刻蝕圖案后，則需要使用特殊的化學試劑對初始掩膜版下表面進行刻蝕。
制作光刻掩膜版用什么軟件畫圖？
光刻掩膜版制作方法
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