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光刻掩膜版的壽命有一個很大的變化范圍,通常介于1000-5000個曝光晶圓計數(shù)。
在掩膜版的使用過程中,霧狀缺陷是影響掩膜版壽命的主要因素。隨著光刻波長的變化,受霧狀缺陷影響的光刻版比例可高達(dá)20%。因此,控制掩膜版使用和保存環(huán)境對保護(hù)掩膜版壽命有很重要的作用。
光刻板和光刻掩膜版什么區(qū)別
制作光刻掩膜版用什么軟件畫圖?
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