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本企業(yè)通過ISO9001質(zhì)量管理體系認證

2021-07-24

目前掩膜版清洗常用的方法是使用氫氧化鉀溶液進行沖洗，然后再在掩膜版光學檢測設備中進行檢查，檢查結果不合適后再次投入氫氧化鉀溶液進行二次清洗...

2021-07-24

光刻掩膜版的制作最重要的設備就是光刻機，光刻機英文名稱Mask Aligner，又名光刻系統(tǒng)、曝光系統(tǒng)等，它采用激光直寫的方式，在光刻掩膜版上面進行圖...

2021-07-24

目前光刻掩膜版的等級規(guī)格主要以尺寸、精度、以及基板材料為維度進行劃分。光刻掩膜版常用的的基板材料有石英玻璃和蘇打玻璃，石英玻璃熱膨脹系數(shù)...

2021-07-23

光刻掩膜版加工最小尺寸？光刻版加工尺寸有多種，不同行業(yè)常用尺寸也不同。 IC（集成電路）行業(yè)專用光刻掩膜版，常用石英和蘇打3~14 inch的基材光掩...

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